Riassunto:
Samsung Electronics ha dichiarato martedì di aver aderito a un'alleanza guidata dal produttore olandese di apparecchiature per semiconduttori ASML per sviluppare congiuntamente la tecnologia di produzione di semiconduttori di prossima generazione. Il colosso tecnologico sudcoreano ha affermato che la collaborazione mira a promuovere lo sviluppo della tecnologia delle fotomaschere da 12 pollici per sostituire il formato delle fotomaschere da 6 pollici ampiamente utilizzato da decenni.

Samsung ha dichiarato in un comunicato stampa: "Basandosi su anni di collaborazione di successo, le due società lavoreranno insieme per promuovere la ricerca, lo sviluppo e l'implementazione di tecnologie avanzate per soddisfare i crescenti requisiti di prestazioni ed efficienza della produzione avanzata di semiconduttori."
Si prevede che questa tecnologia migliorerà l'efficienza produttiva degli stabilimenti e ridurrà i costi di produzione dei chip in un contesto di aumento della domanda di chip di intelligenza artificiale (AI).
Il CEO di Samsung Electronics, Jeon Young-hyun, ha dichiarato: "L'era dell'intelligenza artificiale sta rimodellando l'industria dei semiconduttori, rendendo l'innovazione tecnologica lungo tutta la catena del valore sempre più importante. Rafforzando ulteriormente la nostra cooperazione con ASML, stiamo gettando le basi per la prossima generazione di intelligenza artificiale e innovazione dei semiconduttori."
Samsung prevede inoltre di applicare la tecnologia di litografia ultravioletta estrema (EUV) ad alta apertura numerica (High NA) di ASML alla produzione di massa di memoria ad accesso casuale dinamico (DRAM) per la prima volta entro il 2028.
Si prevede che la tecnologia EUV ad alta apertura numerica promuoverà l'espansione dei processi DRAM fornendo una risoluzione più elevata, ottenendo una semplificazione del processo e una maggiore efficienza di produzione.
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